美国Silicon Materials 2英寸 (50.8mm)硅晶圆 硅晶片 优质晶圆和测试晶圆 厚度范围250–1800微米

美国Silicon Materials 2英寸 (50.8mm)硅晶圆 硅晶片 优质晶圆和测试晶圆 厚度范围250–1800微米

产品Silicon Materials, Inc. 提供多种规格的晶圆及相关服务,满足半导体行业的不同需求。晶圆制造过程完全透明。所有晶圆生产从初始的多晶硅批次到最终包装均可追溯。产品的稳定性源于对整个制造周期的严格控制。

主要原材料:采用美国生产的原生半导体级多晶硅。晶圆产品CZ(直拉法)晶圆尺寸范围:50.8mm 至 450mm类型:优质晶圆(Prime)和测试晶圆(Test)FZ(浮区法)晶圆尺寸范围:50.8mm 至 150mm类型:优质晶圆(Prime)掺杂类型硼(Boron)、磷(Phosphorous)、锑(Antimony)、砷(Arsenic)未掺杂 CZ 晶圆(Undoped CZ)本征晶圆(Intrinsic)晶向标准晶向:<100>、<111>、<110>、<112>可根据客户需求提供定制切割规格厚度和几何参数符合 SEMI 标准或客户指定要求当前能力:大多数直径的晶圆厚度范围为 250 – 1800 微米质量控制所有晶圆均由 SMI 生产或由 SMI 认证/担保的供应商提供定制薄膜和服务提供定制薄膜沉积服务,满足特定应用需求。其他相关服务可根据客户需求定制。优势高质量:严格的质量控制和生产流程,确保产品一致性。灵活性:支持客户定制需求,包括尺寸、掺杂、晶向和厚度。可靠性:所有产品均可追溯,确保透明度和可信度。2 英寸(50.8毫米)硅晶圆规格材料特性参数特性ASTM 控制方法生长方法直拉法(Cz)、浮区法(Fz)–类型/掺杂P 型 – 硼(Boron) N 型 – 磷(Phosphorous) N 型 – 锑(Antimony) N 型 – 砷(Arsenic) 未掺杂(Undoped)F42晶向<100>、<111>、<110>,可根据客户要求提供切割方向(slice ON 或 slice OFF)F26氧含量10-19 ppmA,可根据客户要求提供定制公差F121碳含量< 1.0 ppmA,可根据客户要求提供定制公差F123电阻率范围– P 型(硼):0.001 – 50 欧姆·厘米 – N 型(磷):0.1 – 40 欧姆·厘米 – N 型(锑):0.005 – 0.025 欧姆·厘米 – N 型(砷):< 0.005 欧姆·厘米F84机械特性参数Prime APrime BTestASTM 方法直径2″ ± 0.008″2″ ± 0.008″2″ ± 0.015″F2074厚度279 ± 20 µm(标准) 381 ± 20 µm 450 ± 20 µm 500 ± 20 µm 750 ± 20 µm 1000 ± 20 µm279 ± 25 µm(标准) 381 ± 25 µm 450 ± 25 µm 500 ± 25 µm 750 ± 25 µm 1000 ± 25 µm279 ± 25 µm(标准) 381 ± 25 µm 450 ± 25 µm 500 ± 25 µm 750 ± 25 µm 1000 ± 25 µmF533TTV(总厚度变化)< 5 µm< 10 µm< 15 µmF657弯曲度(Bow)< 38 µm< 38 µm< 38 µmF534翘曲度(Warp)< 38 µm< 38 µm< 38 µmF657边缘倒角符合 SEMI 标准––F928标记仅主 SEMI 平边,提供 SEMI 标准平边、缺口或圆形边缘F26, F671表面质量参数Prime APrime BTestASTM 方法正面标准表面状态化学机械抛光(CMP)––F523表面粗糙度< 2 Å< 2 Å< 2 Å–污染颗粒(>0.3 µm)< 15< 15< 15F523雾度、凹坑、橘皮无无无F523锯痕、条纹无无无F523背面标准裂纹、锯痕、污渍无无无F523表面状态碱蚀刻––F523包装选项包装类型包装袋描述2 部分晶圆盒,2 袋透明立体袋,A/S 蓝色平袋3 部分晶圆盒,2 袋透明立体袋,A/S 蓝色平袋单晶圆运输盒,3 袋透明立体袋,铝制立体袋,A/S 蓝色平袋备注所有规格可根据客户需求进行调整。提供符合 SEMI 标准或客户指定要求的定制服务。 Silicon Materials 优质晶圆 多晶硅 定制晶圆 定制薄膜 晶圆 测试晶圆 硅晶圆 硅晶片 硅片

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